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    美國NXQ紫外掩膜光刻機

    更新時間:2022-04-15

    訪問量:139

    廠商性質:代理商

    生產地址:美國

    簡要描述:
    美國NXQ紫外掩膜光刻機NXQ4000 系列是高校、研究所和企業生產線生產的理想選擇,支持最大 200 mm 的基板尺寸,以及易于使用的接口,具有簡單的頂部掩模加載功能。NXQ4000 系列半自動掩模曝光機將創新設計與精確對準和曝光功能相結合。自動測序使系統非常易于學習和使用,非常適合多用戶實驗室。
    品牌其他品牌產地類別進口
    應用領域醫療衛生,能源,電子,航天,綜合

    一、美國NXQ紫外掩膜光刻機產品概述:

    NXQ MASK ALIGNER光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統優越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統,穩定的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用。

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    二、美國NXQ紫外掩膜光刻機技術參數:

    1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規則碎片(支持對不規則碎片的特殊卡盤設計);

    2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

    3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

    4、分辨率:優于0.5um;

    5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

    6、出射光強范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

    7、支持恒定光強或恒定功率模式;

    8、曝光時間:0.1~999.9s;

    9、對準精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監視器,對準精度可達到0.4微米內;

    10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉換器);

    11、光強均勻性Uniformity:

    <±1% over 2" 區域;

    <±2% over 4" 區域;

    <±3% over 6" 區域;

    12、雙面光刻:具備背面紅外對準(IR BSA)和光學背面對準(OBS BSA),雙面對準精度≤2μm;

    13、電源:高靈敏度光強可控電源。

    14、可選型號:

    NXQ400-6  、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。


    三、產品特點:

    1、可選支持單面對準和雙面對準設計;

    2、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用先進的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠修正的CCD鏡頭設計);

    3、雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

    4、高清彩色雙顯示屏;

    5、全新氣動軸承導軌設計,高精準,低磨損,無需售后維護的;

    6、具有自動執行楔形誤差補償,并在找平后自動定位功能;

    7、操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

    8、操控手柄調控模式的獨特設計;

    9、采用LED穿透物鏡照明技術,具有優秀的對準亮度;

    10、采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構;

    11、抗衍射反射的高效光學光路設計;

    12、帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器;

    13、全景準直透鏡光線偏差半角:<1.84度;

    14、設備穩定性,耐用性超高;







     

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